在快速发展的半导体制造领域,N-甲基-2-吡咯烷酮 (NMP) 等溶剂在光刻胶剥离工艺中的作用受到了越来越严格的审查,尤其是在欧洲市场。随着环境法规的日益严格以及对可持续生产实践的需求日益增长,利益相关者正在重新评估传统溶剂的使用,并探索更安全、更合规的替代品。
2025-05
2025-05-19